聚酰亞胺薄膜研磨分散機(jī)，太倉希德的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。攪拌與研磨一體，研磨效果好，能減少物料使用量，能降低生產(chǎn)成本。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。
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鱗片石墨超高速研磨分散機(jī)，想要石墨更好的分散，需要采用高品質(zhì)的分散設(shè)備，太倉希德結(jié)合多家客戶案例，推薦GMSD2000系列超高速剪切分散機(jī)對石墨粉體進(jìn)行更充分的分散，漿料粒徑更細(xì)、一般為10微米左右，產(chǎn)品穩(wěn)定性高。
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石墨烯基電磁屏蔽涂料分散機(jī)，研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
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四級高剪切分散機(jī)，在保證了具備三高剪切分散機(jī)性能特點(diǎn)外，增加一級模塊（多種規(guī)格選擇），來實(shí)現(xiàn)更好的分散。
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霧化石墨乳研磨分散機(jī)，石墨乳改進(jìn)型高速膠體磨SID循環(huán)式作業(yè)方式的研磨分散機(jī)是一款改進(jìn)型膠體磨，特別適合新材料的研究制備，目前已成功應(yīng)用于硅硼漿、石墨烯、石墨烯改性材料、碳納米管、光伏材料、光催化研究，軍工研究等多項(xiàng)科研和生產(chǎn)中。
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氧化鈷漿料研磨分散機(jī)，氧化鈷粉體粒徑一般為10微米左右，需要加入液體介質(zhì)中分散應(yīng)用，氧化鈷+液體介質(zhì)+分散劑采用GMSD2000系列研磨分散機(jī)進(jìn)行研磨分散，解決團(tuán)聚問題，更均勻的分散，并進(jìn)一步細(xì)化粒徑，一般分散后粒徑為D90小于1微米，分散效果好，效率高。
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